国产中端光刻机生产几纳米芯片

中国能生产光刻机和5纳米芯片。已经生产出90纳米的光刻机低端、国产即将生产出28纳米的中端、国产因此有充分的理由相信7、5纳米的即EUV光刻机也能生产出来；已能生产7纳米芯片依托的是国外DUV光刻机“目前中芯国际针对5纳米工艺已经在开展但由于缺乏EUV光刻机所以暂时无法再跟进”（梁孟松语）这就是中国光刻机和芯片发展的基本现状与趋势。

中国已经初步证明 1 个国家主要依靠自己的技术和人才就能生产出那么难造的设备。虽然还仅是用已生产出的低端、将生产出的中端光刻机来证明的却也已经实打实地攻破了 1 个国家不可能生产出光刻机的论调。而光刻机特别难造这个说法无疑也适用于低端、中端光刻机只不过高端光刻机更难造而已其实日本已经作了同样的证明主要依靠本国已经把中端光刻机也生产出来了先于我们国家。荷兰的ASML所证明的是多国能生产已经表明通过多国研发、一国集成可生产出高端的光刻机但并不是一蹴而就的高端正是建立在先生产出低端、又生产出中端的基础上哪一类高端设备的诞生不是经历了这样的一个过程？所以说我们国家和外国在光刻机生产上的过程和结果必定是相同的只是途径不同罢了问题是我们想跟人家合作研制人家却根本就不想；当然还会有速度的不同我们国家毕竟只能主要依靠自己研发、生产慢一些是难以避免的很客观高端光刻机的研发和生产无论怎么努力、多么专注也都会更慢。

我们国内生产高端光刻机和芯片的需求与动力强劲。中国是世界上第一大芯片市场低端、中端、高端的光刻机和芯片需求都强劲而我们国内已经具备的7、5纳米芯片设计能力已经具备的7纳米工艺技术能力、7纳米生产良品率达到业界标准5纳米生产技术研发以及已经具备的高端封装封测能力都让高端光刻机成为了现实且紧迫的需求7纳米、5纳米的光刻机都急需而外国的相应光刻机却买不来中芯国际下了订单的也不给发货了只能等待中国生产出的EUV光刻机中国必须自己生产出来、提供上去的形势明朗、动力强劲更为强劲的是国家的自主可控要求和自主研发规划以及政策、资金等支持。